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DLAB 大龍恒溫振蕩金屬浴HCM100-Pro
DLAB金屬浴系列作為產品前處理,生化反應控溫的*選擇,已廣泛應用于分子生物學、臨床、環境和工業實驗室等各個領域。
特點優勢
• 出色的溫度控制系統;
• 振蕩款max轉速1500 rpm(不同模塊會有變動);
• 多種承載模塊選擇;
• 支持程序編輯和存儲;
• 磁鐵吸附技術,無需工具,模塊即可自動 與機器吸附;
• 配置保溫功能模塊罩,防止熱量散失。
DLAB 大龍恒溫振蕩金屬浴HCM100-Pro
• 支持連續6段程序編輯和存儲;
• 磁鐵吸附技術,無需工具,模塊即可自動與機器吸附,更換模塊更便捷;
• 精準控溫升級款,每個模塊配置單獨保溫功能模塊罩,無熱量散失。
技術參數
型號 | HCM100-Pro |
溫度控制范圍[°C] | 室溫5℃~100℃ |
溫度設定范圍[°C] | 15~100 |
溫度控制精度[20-45°C] | ±0.5 |
時溫度均一性[20-45°C] | ±0.5 |
max加熱速率 | 5.5℃ |
max制冷速率(℃/分) | 2.5℃(100℃至室溫),0.5℃(至低于室溫) |
調速范圍 | 200-1500rpm |
混勻直徑 | 3mm |
時間設定范圍 | 1min-99h59min |
MAX編程數量 | 9 |
顯示屏規格 | LCD |
輸入電壓 | 100-240V,50Hz/60Hz |
加熱功率[w] | 200 |
尺寸(長×寬×高) | 200×235×120mm |
工作環境濕度 | 80%RH |
工作環境溫度 | 5~40℃ |
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